金屬化薄膜電容器在制造過程中,介質薄膜層與層之間不可避免的存在著氣隙。由于薄膜厚度的不均勻,薄膜表面的不平整,甚至金屬化鍍層厚度和薄膜表面之間的空隙以及生產工藝等因素,這種氣隙在某些位置還會比較嚴重。
因此,金屬化薄膜電容器如果無法消除這些氣隙,則在脈沖或交流應用中當脈沖或交流電壓超過某一水平時,存在的氣隙會被電場擊穿,發生氣隙電離。電離時由于氣隙“中性分子的外層電子將脫離分子的束縛”而逸出 ,在電容器介質薄膜和相鄰一層薄膜的金屬化鍍層電極之間,產生帶電荷的正、負離子。
金屬化薄膜電容器在制造過程中,介質薄膜層與層之間不可避免的存在著氣隙。由于薄膜厚度的不均勻,薄膜表面的不平整,甚至金屬化鍍層厚度和薄膜表面之間的空隙以及生產工藝等因素,這種氣隙在某些位置還會比較嚴重。
因此,金屬化薄膜電容器如果無法消除這些氣隙,則在脈沖或交流應用中當脈沖或交流電壓超過某一水平時,存在的氣隙會被電場擊穿,發生氣隙電離。電離時由于氣隙“中性分子的外層電子將脫離分子的束縛”而逸出 ,在電容器介質薄膜和相鄰一層薄膜的金屬化鍍層電極之間,產生帶電荷的正、負離子。